Oszczędniejszy proces oczyszczania powierzchni dzięki czujnikom

Oszczędniejszy proces oczyszczania powierzchni dzięki czujnikom

Naukowcy sponsorowani przez Semiconductor Research Corporation (SRC) poinformowali o skonstruowaniu nowego rodzaju czujnika oraz stworzeniu techniki pomiarowej, które pozwolą znacząco obniżyć zużycie wody i energii w procesie produkcji półprzewodników.

Związani z SRC naukowcy z University of Arizona (UA) zastosowali w procesie płukania i czyszczenia płytek czujniki, które umożliwiły zaoszczędzenie nawet 30 procent wody i energii.

„Technologia ta przyniesie firmom z sektora półprzewodników duże korzyści. Planujemy ją teraz skomercjalizować, gdyż obecnie nie ma na tym polu konkurencji." – stwierdził Farhang Shadman z UA. „Dzięki nowatorskiemu wykorzystaniu czujników, wychodzimy na przeciw wzrostowi zapotrzebowania na zasoby, związanego z przygotowywanie powierzchni większych i bardziej złożonych płytek." – dodał.

Przygotowani powierzchni zwykle składa się z trzech kroków. Pierwszy, to oczyszczanie powierzchni przy pomocy odpowiednich chemikaliów. Drugi, to płukanie i usuwanie chemikaliów oraz produktów ubocznych procesu. Trzeci wreszcie, to suszenie płytki.

Obecna metoda realizowana jest według sztywnej receptury i nie jest kontrolowana w czasie rzeczywistym. Proces jest przez to zwykle realizowany z dużym marginesem bezpieczeństwa.

„Wyzwaniem jest tak zaplanować proces, by zastosować minimum cennych zasobów, a nie dopuścić do pozostania zanieczyszczeń." – stwierdził Steve Hillenius, wiceprezes SRC.

Odkrycie znajdzie zastosowanie nie tylko w branży półprzewodników, ale wszędzie tam, gdzie w grę wchodzi proces precyzyjnego oczyszczania powierzchni. Przykładem mogą być sektory: optyczny, optoelektroniczny czy wreszcie płaskich wyświetlaczy.

(lk)