Polski grafen opatentowany

Polski grafen opatentowany

Instytutowi Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) z powodzeniem udało się uzyskać amerykański patent chroniący opracowaną przez jego członków metodę wytwarzania grafenu. Podobne postępowanie patentowe toczy się w Unii Europejskiej, a technologia chroniona jest również w Japonii oraz Korei Południowej.

Grafen produkowany przez warszawskich badaczy tworzony jest na podłożu z węglika krzemu. Tak utworzony materiał przeznaczony jest do stosowania w nowoczesnej elektronice. Na świecie trwa nieprzerwany wyścig, na którego mecie czeka grafen o możliwie jak największej powierzchni.

Dla dyrektora ITME droga do sukcesu jest jeszcze długa i nie jest bynajmniej wolna od przeszkód. Największym konkurentem Instytutu jest ośrodek zlokalizowany w Stanach Zjednoczonych, którego technologia wydaje się równie obiecująca. Wszystko jednak wskazuje na to, że polska metoda posiada lepsze perspektywy dla zastosowań przemysłowych.

Technologia, o której mowa została opracowana przez zespół dr inż. Włodzimierza Strupińskiego cztery lata temu. Sam grafen produkowany jest przez Agencję Rozwoju Przemysłu oraz samo ITME. Inwestorami wspierającymi prace nad jej rozwojem jest natomiast polski koncern zbrojeniowy PGZ oraz fundusz inwestycyjny KGHM.

(rr)